NEXT CVD MPDEX‐21/21-2电感耦合等离子体系统

电感耦合等离子体系统可以产生高密度（1012~1013 cm-3）的电感耦合等离子体，可以施加频率从0.5~13.56 MHz（低频到中频）的射频电源，外加功率变化范围是0~5000W。主要用于等离子体辅助化学气相沉积（CVD）、薄膜制备与处理、表面改性、刻蚀与晶片清洗等。

电感耦合等离子体系统MPDEX‐21/21-2

主要由以下几个部分组成

(1)平板式电感耦合等离子体源

结合电源发生器和射频匹配网络可以产生高密度（10¹²~10¹³ cm^-3）的电感耦合等离子体，可以施加频率从0.4~13.56 MHz（低频到中频）的射频电源，外加功率变化范围是0~5000W。主要用于等离子体辅助化学气相沉积（CVD）、薄膜制备与处理、表面改性、刻蚀与晶片清洗等。

(2)射频匹配网络（RF Matching Network）

射频网络包括匹配（Matching)和调谐（Tuning)，其中匹配网络的固定电容可提供的选择从5到100纳法（nF)等等，调谐网络的电容可调节范围是10~2010，1010~3100，2010~4010，3010~5010， 4010~6010皮法（PF）等等。主要为磁控溅射、电容耦合等离子体（CCP）和电感耦合等离子体（ICP）提供匹配网络，通过匹配网络提供可调节的阻抗使磁控溅射、CCP和ICP能在不同的工艺条件下正常运行。

(3)Advanced Energy PDX 8000 低频电源，340-440 KHz, 8000W

主要为容性或者感性等离子体提供射频电源。PDX系列大功率（5000和8000W)低频电源为各种广泛的工艺应用提供一种高效、紧凑、易于整合的电源。这些高度可靠地电源提高了工艺灵活性，提供广泛的运行频率范围以优化工艺控制，确保较高的工艺重复性，并提高了吞吐量。

(4)Advanced Energy Dressler Cesar 2 MHz 或 13.56 MHz 射频发生器，600 W, 1000 W 或 2000 W

主要为磁控溅射，CCP和ICP提供射频电源。强大而多功能的 Cesar® 平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。 

高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现最优化，从而使您的投资和制程生产力得到最大化的利用。一个全面而高度灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了无与伦比的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本最小化。