薄膜厚度测量仪

仪器简介：

·标准模式
·工业规格
·自动机械X-Y活动
·自动调焦 
·防震台

技术参数：

类型 ：自动的
测量方法： 非接触
测量原理 ：反射计 
活动范围： ~300mm x 300mm
测量范围： 100Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
光斑尺寸： 40㎛/20㎛,4㎛(option)
测量速度 ：1~2 sec./site(fitting time) 
应用领域 ：半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
电解质: SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, Alq, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光学涂层：: 减反射膜, Color Filters...
太阳能电池 Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
聚合物: PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 
可选： Transmittance Module
               Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST)
接物镜旋转器： Quintuple Revolving Nosepiecs
焦点 ：Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明 ：12v 100W Halogen Lamp

主要特点：

测量迅速，操作简单

非接触式，非破坏方式

优秀的重复性和再现性

2D/3D 映射和造型

自动机械活动控制

电荷耦合器件照相机

自动调焦

防震台