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产品用途：
此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
产品组成：
此款CVD系统配置：
1.1200度开启式真空管式炉（可选配单温区、双温区）。
2.多路质量流量控制系统
3.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵
防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。
系统名称 | 1200℃单/双温区CVD系统 | |
系统型号 | CVD-12II-3Z/G | CVD-12II6-3Z/G |
极限温度 | 1200℃ | |
加热区长度 | 420mm | 600mm |
恒温区长度 | 280mm | 390mm |
温区 | 双温区 | 双温区 |
石英管管径 | Φ50/Φ60/Φ80mm | Φ80/Φ100mm |
额定功率 | 3.2Kw | 4.8Kw |
额定电压 | 220V | |
温度控制 | 国产程序控温系统50段程序控温； | |
控制精度 | ±1℃ | |
炉管工作温度 | ＜1200℃ | |
气路法兰 | 密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在初次使用设备的时候安装 | |
气体控制方式 | 质量流量计 | |
气路数量 | 3路（可根据具体需要选配气路数量） | |
流量范围 | 0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 | |
精度 | ±1%F.S | |
响应时间 | ≤4sec | |
工作温度 | 5-45℃ | |
工作压力 | 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） | |
系统连接方式 | 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 | |
规格 | 高真空 | |
系统真空范围 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
真空泵 | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1200L/S额定电压220V 功率2KW | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V 功率2KW |
炉体外形尺寸 | 340×580×555mm | 480×770×605mm |
系统外形尺寸 | 530x1440x750mm(不含高真空) | |
系统总重量 | 330kg | |
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企业名称
天津中环电炉股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
120113000025275
成立日期
1998-10-15
注册资本
200
经营范围
实验电炉、实验室仪器制造;实验室分析仪器制造;工业电炉;机械设备;电气、仪器设备维修;机械加工;机电产品;钢材经营;玻璃仪器;五金交电批发零售;钢材销售;软件开发;技术推广服务;从事国家法律、法规允许经营的进出口业务;开关柜、电器开关、防雷产品、应急电源柜设备制造;机电设备安装;电气火灾监控系统设备生产、销售;计算机、软硬件的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让;操作系统软件及应用软件的销售。(以上经营范围涉及行业许可的凭许可证件,在有效期限内经营,国家有专项专营规定的按规定办理)(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
天津中环电炉股份有限公司
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天津市北辰经济开发区双川道11号
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