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CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域
CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统
CVD系统产品的特点：
1 CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD系统使用计算机控制，可以设置多种生长参数
4 CVD系统可以制备高质量，大面积石墨烯等碳材料，尺寸可达数厘米，研究动力学过程
5 CVD系统沉积效率高；薄膜的成分精确可控，配比范围大；厚度范围广，由几百埃至数毫米，可以实现厚膜沉积且能大量生产
企业名称
天津中环电炉股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
120113000025275
成立日期
1998-10-15
注册资本
200
经营范围
实验电炉、实验室仪器制造;实验室分析仪器制造;工业电炉;机械设备;电气、仪器设备维修;机械加工;机电产品;钢材经营;玻璃仪器;五金交电批发零售;钢材销售;软件开发;技术推广服务;从事国家法律、法规允许经营的进出口业务;开关柜、电器开关、防雷产品、应急电源柜设备制造;机电设备安装;电气火灾监控系统设备生产、销售;计算机、软硬件的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让;操作系统软件及应用软件的销售。(以上经营范围涉及行业许可的凭许可证件,在有效期限内经营,国家有专项专营规定的按规定办理)(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
天津中环电炉股份有限公司
公司地址
天津市北辰经济开发区双川道11号
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