毫无争议的最佳原子力显微镜-自动缺陷检查和表面粗糙度测量
更高的通量,自动的缺陷检查
对于媒介和基体领域的工程师而言,识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析,从而加速缺陷检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接连接,这意味着自动缺点检查通量大幅提高。
次埃米表面粗糙度测量
行业对于超平媒介和基体的要求越来越高,从而满足体积不断减小的设备需求。此外,Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术,Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。
* 应用
- 媒介和基体自动缺陷检查
更高的通量,自动的缺陷检查
NX-HDM的自动缺陷检查功能(Park ADR)可加速和改良识别、扫描和分析媒介和基体缺陷的流程。借助光学检查工具提供的缺陷位置图,Park ADR可自动定位这些位置并进行成像(分两步):
(1)缩小扫描成像,以准确定位缺陷。
(2)放大扫描成像,以获取缺陷的细节。在真实缺陷测试中,我们可以看到相比于传统的方法,该自动功能可将缺陷检查通量提高到10倍。
自动搜寻式扫描和放大扫描
经过优化的扫描参数让两步式扫描更为快速:
(1)快速的低分辨率搜寻式扫描,以准确定位缺陷。
(2)高分辨率的放大扫描,以获取缺陷的细节。扫描尺寸和扫描速度参数可调节,从而满足用户需求。
![??1.jpg](http://img1.17img.cn/17img/images/201501/uepic/50073f9a-b653-4d27-824a-e403adafd0da.jpg)
缺陷坐标图自动传入和映射至原子力显微镜
借助独有的先进映射算法,从自动光学检测(APO)工具中获取的缺陷坐标图可准确地传入和映射至Park NX-HDM。该技术让全自动高通量缺陷成像成为可能。
光学检测工具的缺陷坐标图
![??2.jpg](http://img1.17img.cn/17img/images/201501/uepic/9d9a2440-359f-4ceb-bb1b-b99facf16c7c.jpg)
- 精确的次埃米表面粗糙度测量
次埃米表面粗糙度测量
行业对于超平媒介和基体的要求越来越高,从而满足体积不断减小的设备需求。此外,Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术,Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。
* 技术特点
全自动图形识别
借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件,Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。
自动测量控制
自动化软件让NX-HDM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化,为您提供多位置分析。
自动化软件会按照测量文件中预设的程序进行样品测量。Park的用户友好型软件界面让用户可灵活执行全系统功能。创建新测量文件只需要10分钟左右的时间,而修改现有的测量文件则需要不到5分钟的时间。
Park NX-HDM具有:
·自动、半自动和手动模式
·各自动程序的可编辑测量方法
·测量过程实时监测
·自动分析所获取的测量数据
二维柔性导引扫描器,超大的100 μm x 100 μm扫描范围
XY轴扫描器含有对称的二维柔性和高强度压电叠堆,可在保持平面外运动最少的情况下,实现高正交运动以及纳米级样品扫描下的高响应度。
闭环式XY轴扫描器带双轴伺服系统
XY轴扫描器的各轴上配有两个对称的低噪声位置感应器,得以在最大的扫描范围和样品尺寸下保持高正交扫描。双感应器能够修正和补偿单感应器引起的非线性和非平面位置误差。
高速Z轴扫描器,扫描范围达15 μm
借助高强度压电叠堆和柔性结构,标准Z轴扫描器的共振频率高达9 kHz以上(一般为10.5 kHz)且探针的Z轴移动速率不低于48 mm/秒,让信息反馈更为准确。最大Z轴扫描范围可从标准的15 μm扩展至40μm(可选购的远距离Z轴扫描器)。
低噪声XYZ轴位置传感器
行业领先的低噪声Z轴探测器替代Z电压,作为样貌信号。此外,低噪声XY闭环扫描可将正向扫描和反向扫描间隙降至扫描范围的0.15%以下。
行业最低的本底噪声
为了检测最小的样品特征和成像最平的表面,Park推出行业本底噪声最低(< 0.5?)的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时,在如下情况下测量系统噪声:
·0 nm x 0 nm扫描范围,停在一个点
·0.5增益,接触模式
·256 x 256像素
离子化系统
离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡,便可以稳定地离子化带电物体,且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。