南理工首次导入最新型多功能平台X射线光电子能谱仪PHI5000Versaprob

滨州创元设备

2013/05/08 09:02

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滨州创元设备机械制造有限公司代理的日美纳米表面分析仪器公司(U-P)的最新型多功能平台聚焦扫描式微区X射线光电子能谱仪PHI5000VersaprobeII/UPS在2013年3月28日南京理工大学国际招标会上以技术领先取胜，独家投标中标.已经于2013年4月19日收到中标通知书.。
　　该校独具慧眼，在1980年代和2010年分别导入PHI公司的X射线光电子能谱仪之后, 又及时导入最新型多功能平台聚焦扫描式微区X射线光电子能谱仪PHI5000VersaprobeII,该装置还配备有UPS,专门用于测定光电学院半导体表面功函数.相信南理工光电学院借助于该世界一流设备一定可以会很快取得世界一流研究成果.参见PHI5000Versaprobe II主要技术参数,主要选项和彩色样本.

检测项目	检测条件	样品	测量方法	指标值
系统到达真空	分析室无样品，系统经过完全烘烤后冷至室温;使用升华泵	无	测量系统真空压力	<5x10^-10 torr
Ag样品XPS光电子能量分辨率	Take-off为75度样品为银斑束为20um 功率为4.5W	Ag样品抛光后表面轻微溅射一下	能量范围372 eV 到 365 eV. 取谱时间10 min，采用 Shirley法去除本底，使用PHI MultiPak测量半高宽 FWHM	Ag 3d 5/2 峰半高宽 FWHM < 0.50 eV
PET 样品XPS光电子能量分辨率	Take-off为45度斑束为100um 电子和离子双束中和	PET 样品不需要使用任何金属网增加导电性能	能量范围300 eV to 280 eV. 取谱时间5 min 采用 Shirley法去除本底，使用MultiPak进行 Gausian/Lorentzian 曲线拟合求出FWHM	C1s的O=C-O峰半高宽 FWHM < 0.85 eV
最小X射线斑束	Take-off为45度	300 LPI Cu grid	对铜栅网边缘扫描得到铜信号，使用PHI MultiPak 采用80/20法去评价斑束大小	<9.0μm 在x 方向 <9.0μm 在y 方向
常用X射线斑束	Take-off为45度	300 LPI Cu grid	对铜栅网边缘扫描得到铜信号，使用PHI MultiPak 采用80/20法去评价斑束大小	<10.0 μm @ <1.25 watts <15.0 μm @ <2.50 watts <20.0 μm @ <4.50 watts
X-ray XPS灵敏度和能量分辨率	设定X射线斑束时候采用Take-off为75度设定大功率X射线时候采用Take-off为90度各种pass energy 设定	Ag样品抛光后表面轻微溅射一下	能量范围372 eV 到 365 eV. 采用 Shirley法去除本底，使用PHI MultiPak测量半高宽确定能量分辨率和强度从而得到能量分辨率-灵敏度曲线	X-ray Beam Energy Sens. Size Res. > 15kcps <10.0 μm <0.60 eV > 30kcps <15.0 μm <0.60 eV > 55kcps <20.0 μm <0.60 eV > 35kcps <10.0 μm <1.00 eV > 70kcps <15.0 μm <1.00 eV > 125kcps <20.0 μm <1.00 eV >3Mcps High <1.30eV Power Mode
离子枪最大电流	离子能量5 kV	样品台	测量到达样品台的离子电流偏压开	>5.0 μA @ 5 kV
离子枪工作时候分析室内压力	离子能量5 kV 开启差动排气	无	用标准离子规测量溅射时分析室压力	< 5x10^-8 torr