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南京理工大学多功能平台聚焦扫描式微区X射线光电子能谱仪PHI5000 VersaprobeII设备开始调试。

滨州创元设备

2013/12/03 09:19

阅读:793

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标题:南京理工大学多功能平台聚焦扫描式微区X射线光电子能谱仪PHI5000 VersaprobeII设备开始调试。

 

   滨州创元设备机械制造有限公司代理的日美纳米表面分析仪器公司(U-P)的最新型多功能平台聚焦扫描式微区X射线光电子能谱仪PHI5000VersaprobeII/UPS近期在南京理工大学开始安装调试。

   这是一款新型的世界一流水平的设备,这款设备的成功应用将帮助南京理工大学光电学院的研究迈向新的世界水准高度。

   参见PHI5000VersaprobeII主要技术参数机主要选项:

检测项目

检测条件

样品

测量方法

指标值

系统到达真空

分析室无样品,系统经过完全烘烤后冷至室温;使用升华泵

测量系统真空压力

<5x10-10  torr

 
 Ag
样品XPS光电子能量分辨率

Take-off为75度
 样品为银
 斑束为20um
 功率为4.5W

Ag样品抛光后表面轻微溅射一下

能量范围372 eV 到 365 eV. 
 取谱时间10 min,采用  Shirley法去除本底,使用PHI MultiPak测量半高宽 FWHM

Ag 3d 5/2 峰半高宽
 FWHM < 0.50 eV

PET 样品XPS光电子能量分辨率

Take-off为45度
 斑束为100um
 电子和离子双束中和

PET 样品不需要使用任何金属网增加导电性能

能量范围300 eV to 280 eV. 
 取谱时间5 min
 采用  Shirley法去除本底,使用MultiPak进行 Gausian/Lorentzian 曲线拟合求出FWHM

C1s的O=C-O峰半高宽  FWHM < 0.85 eV
  

最小X射线斑束
  

Take-off为45度
  

300 LPI Cu  grid
  

对铜栅网边缘扫描得到铜信号,
 使用PHI MultiPak 采用80/20法去评价斑束大小

<9.0μm 在x 方向
 <9.0μm 在y 方向

常用X射线斑束
  
  

Take-off为45度
  

300 LPI Cu  grid
  
  

对铜栅网边缘扫描得到铜信号,
 使用PHI MultiPak 采用80/20法去评价斑束大小

<10.0 μm   @  <1.25 watts
 <15.0 μm   @  <2.50  watts
 <20.0 μm   @  <4.50  watts
  

           X-ray XPS灵敏度和能量分辨率

 
 
设定X射线斑束时候采用Take-off为75度
  
 设定大功率X射线时候采用Take-off为90度
 各种pass energy
 设定

Ag样品抛光后表面轻微溅射一下

能量范围372 eV 到 365 eV.
 采用  Shirley法去除本底,使用PHI  MultiPak测量半高宽确定能量分辨率和强度从而得到能量分辨率-灵敏度曲线

X-ray       Beam    Energy
  Sens.     Size     Res.       
 > 15kcps <10.0
μm  <0.60 eV
 > 30kcps <15.0 μm  <0.60  eV
 > 55kcps <20.0 μm  <0.60  eV
 > 35kcps <10.0 μm <1.00  eV
 > 70kcps <15.0 μm <1.00  eV
 > 125kcps <20.0 μm <1.00  eV
 >3Mcps High <1.30eV         Power
            Mode

离子枪
 最大电流

离子能量5 kV

样品台

测量到达样品台的离子电流
 偏压开

>5.0 μA @ 5 kV

离子枪工作时候分析室内压力

离子能量5 kV
 开启差动排气

用标准离子规测量溅射时分析室压力

< 5x10-8  torr

 


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