活动范围 300mm x 300mm
测量范围 100Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
光斑尺寸 40㎛/20㎛,4㎛(option)
测量速度 1~2 sec./site (fitting time)
应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measure
选择 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST)
Anti-vibration table
接物镜转换器 Quintuple Revolving Nosepiecs
焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明 12v 100W Halogen Lamp
主要特点:
·标准模型
·工业规格
·自动的X-Y平台
·自动调焦
·半导体和裂变产物探测
尺寸 500 x 750 x 650 mm
重量 80Kg
类型 自动
测量型号 ≤ 4"
测量方法 无连接的
测量原理 反射计
特征