Photonic Professional GT2：微纳加工的革新者

Photonic Professional GT2：微纳加工的革新者

在微纳加工的世界里，Nanoscribe的Photonic Professional GT2犹如一颗璀璨的明星，以其卓越的性能和无与伦比的精度，引领着科学研究和快速成型的潮流。这款三维微纳加工设备，不仅集成了多种微加工模组，更是科学研究和快速成型的多用途设备，为快速手板制作和超精密微加工提供了精度最高的3D无掩模光刻解决方案。

1.关键特性

1.1专用于科学研究和快速成型：Photonic Professional GT2专为科研和快速成型设计，装配有galvo振镜模组，实现了高速三维超精密加工。

1.2亚微米特征尺寸的设计自由度：在亚微米特征尺寸上，该设备实现了完全的三维设计自由度，为微流道、微机械、生物医学工程等领域提供了无限可能。

1.3直接使用CAD生成的STL格式三维模型进行加工：简化了无掩模光刻工作流程，使得加工过程更加直观和高效。

2.广泛的印刷材料-基材选择：为多尺度和多领域的三维微加工量身定制解决方案，支持广泛的材料和基板选择。

3.技术参数

3.1无掩模光刻技术：采用逐层双光子光固化技术，实现了三维最小横向特征尺度可达160 nm，二维横向分辨率400 nm，最佳纵向分辨率1,000 nm。

3.2最大加工体积：最大加工体积达到100 x 100 x 8 mm³，为大尺寸微纳结构的加工提供了可能。

3.3最佳平面粗糙度Ra：最佳平面粗糙度Ra≤20 nm，保证了加工表面的高精度和平滑度。

4.应用领域

Photonic Professional GT2的多功能性在多个领域中协助完成了关键性创新，包括机械超材料、光学超材料、自由曲面光学元件、可操控的微马达和具有生物兼容性的细胞支架等。这些成果不仅在同行评审的期刊出版物中得到广泛认可，也成为突破性研究的例证。

5.为什么选择Nanoscribe

作为技术先驱和市场领导者，Nanoscribe是您在高精度无掩模光刻领域的可靠伙伴。我们的客户包括全球顶尖大学和高科技企业，如哈佛大学、加州理工大学、华为技术有限公司、美国苹果公司等。我们提供便捷的解决方案，将用户的灵感和想法变为实物，帮助他们实现突破性的创新。

6.客户支持与技术服务

我们的多语种技术服务团队为您提供全方位的客户支持，包括装机调试、定时维护和故障修理、使用培训课程、在线知识库NanoGuide、电话、电子邮件和远程支持等。我们致力于提供超越基础应用的技术支持，以及延长保养和保修选项，提供升级和搬迁服务。

选择Nanoscribe的Photonic Professional GT2，让我们一起开启微纳加工的新篇章，探索科学的无限可能。