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核心参数
产地类别： 进口
400-860-5168转1545
R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVD
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系统
30x40cm substrate
衬底尺寸为30x40cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射。
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