IoN 100旨在满足用户不断变化的需求,着重于表面处理需求的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效保护报警系统和数据采集软件。这使该设备可满足严格的质量控制程序。IoN 100结构紧凑、集成度高,采用射频(RF)激发等离子体。新型 IoN 100 的一个设计特点是可以快速方便的更换不同类型的腔室和电极结构。
先进的功能性:
灵活快速的更换不同结构的电极和腔室
安装简单快捷
可选配机载气体发生器
节能的操控功能使用户成本最低化
可配置的腔室可使用各种不同的电极构造,适用于小尺寸的结构复杂的三维工件或大批量的大工件处理
采用Windows操作系统的计算机控制
图形用户界面(GUI) ,操作软件符合Semi E95-1101和 FDA CFR第21章第Ⅱ部分的要求
菜单驱动式工艺过程
以太网通讯功能
绘图和自诊断功能
液晶触摸屏(LCD)操作面板和键盘
规格参数
工作腔室
材质 铝
容积 100 升(标配)
可按用户需求定制腔室大小
内部尺寸 375 x 375 x 711 mm (宽/高/深)(标配)
375 x 375 x 965 mm (宽/高/深)(选配)