辉光放电原子发射光谱

      辉光放电光谱检测方法利用低压，通过氩离子束对样品表面均匀溅射物质的非热能处理技术。溅射出的物质离开样品表面随后被原子化并在低压等离子放电区域被激发。GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究，以及研发的技术设计的。
      这个型号的仪器可提供非常高的准确的元素总量分析以及对于涂层和表面处理的断面深度定量分析。其提供的光谱分析范围可从120nm 到800nm,元素分析通道可设置到58个。 

特性：

1.溅射和激发的分离技术
2.具备宽动态范围的线性校准曲线
3.更少的自吸和物质再沉淀现象
4.几乎为排它的原子谱线激发
5.狭窄的特征光谱线及更少的干扰
6.更少的校准所要求的标准样品
7.氩气消耗量低
8.每次样品分析间隔的阳极自动清扫

9.标准辉光放电溅射烧斑           


10.虽然其它的方法可以对样品表面轰击也可以做得很好，但永远做不到对分析的试样每次11.都能提供这样的典型烧斑。由于采用辉光放电，从表面溅射出来的样品物质非常均匀。12.样品分析过程的非热能特征对于复杂的应用来说是一种极好的方法。

Models 型号：GDS-850A

Options 可选部件
RF Source  射频光源
Statistical Software Package  数理统计软件包
Lamp Assembly Kits 光源组建
Sample Holders 试样夹持器
SmartLine® Remote Diagnostics  远距离故障诊断套件
 
Applications 应用技术资料
Bulk Analysis  总量分析Steel  钢基
Iron   铁基
Aluminum 铝基
Copper 铜基
Brass/Bronze 黄/青铜
Nickel 镍基
Cobalt 钴基
Titanium 钛合金
Tungsten 钨
Magnesium 镁
Solders 焊料
Zinc 锌
Carbides 碳化物
Powdered Metals 粉末金属
Depth Profiling 断面深度检测Galvanizing 热镀锌
Plating 电镀层
Thermochemical Treatments 热处理
Coatings 涂层
Clad 金属涂层
Oxide Layers 氧化物涂层
Organic Coatings 有机涂层
Semiconductors 半导体
Glass/Ceramics 玻璃/制陶