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超完美组合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜
超完美组合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜
在这个世界上个体的力量是有限的，
80/90的小伙伴们都知道，
在龙珠里
悟空和贝吉塔的合体
才是最燃时刻
才能打败强大的敌人！
做实验也是一样的道理哦！
使用Tosca™ 400和SAXSpoint 2.0系统
来表征垂直基底的多孔结构聚合物薄膜。
掠入射小角X射线散射（GISAXS）
是一种用于分析纳米尺度表面结构
高度灵敏的测量方法
给出一个大样品面积上的平均信息。
原子力显微镜（AFM）能提供
局部表面结构的高空间分辨率的直接可视信息。
这使得两种方法在纳米结构表面表征上完美互补。
Anton Paar –让膜研究更易进行
纳米孔膜具有高超的潜力
如：现代电池和能量转换应用，以及水处理领域。
这类样品的孔隙结构的表征
对它的性能是极其重要的。
这里我们展示的是对厚度为100 nm
垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。
Tosca™ 400 – 高度自动化工业AFM提供卓越的图片分辨率和高样品通量。
SAXSpoint 2.0 – 多用途点准直SAXS仪器，提供高分辨率和光通量，使得它成为膜研究的完美工具。
Fig. 1: 纳米多孔PE/PEG薄膜水平方向一维切面的二维GISAXS图样（左）和AFM形貌图（右）。
左边的图是用SAXSpoint 2.0系统研究结构的GISAXS图样。从反射图上计算得到孔-孔间距大约50 nm。从相应的反射位置（见插图）看，孔的六方排布可见。
右边的图显示的是相应的AFM形貌图，使用Anton Paar新的AFM Tosca™ 400获得。它证实了孔是六方排布，周期性50 nm和平均孔直径为20 nm。
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