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半导体工业蚀刻碱液在线浓度测量--德国Centec

雷迪美特中国

2013/05/14 15:37

阅读:667

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    半导体硅晶片生产行业过程中,蚀刻晶片需要用一定浓度的碱液(NaOH和KOH)。这个浓度需要精确的和可重复的蚀刻过程测量和控制。

           

德国的Rhotec传感器适用于

- 硅
晶片生产电子芯片

- 测量NaOH和KOH[w/w% ]

- 蚀刻浓度的Rhotec自动控制



测量原理
    在线Rhotec-E密度传感器/传送器精确测量液体的密度,可以在极端工艺条件状态下使用。当样品经过U型管,振荡频率发生变化并测量相应的振荡频率,温度探头PT1000作温度补偿,测出的振荡频率转换为密度并显示w/w%,v/v%,Brix(白利糖度),萃取率%或其他可测量介质的密度。使用此装置可记录分析液体的密度变化,尤其溶解性物质和非溶解性物质的混合物,如有机和无机混合物。

技术参数:

测量范围 0~3 g/cm3 过程连接 3/8”螺纹
精度 ±0.0001 g/cm3 传感器连接 现场总路线DP
重现性 ±0.00001 g/cm3 输入 2*digital(24VDC)
响应时间 ≤ 1s 输出 3*digital(24VDC)
2*analog(4~20mA)
温度传感器 Pt1000 可选 现场总线DP
温度范围 -25~125℃ 外壳防护等级 IP65
压力 最大50bar 电源 24VDC
接触样品的材质 哈氏合金C276,蒙乃尔合金400,
耐热铬镍铁合金825,
不锈钢1.4571,钽等
爆炸防护(可选) Ex  Ⅱ 2G Eex d ⅡC T6


更多信息请联系400-628-2898或电邮 redmatrix@126.com
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