磁控溅射枪和电源: 圆形溅射枪 --溅射枪:1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 10, 12, 13 inch --超高真空溅射枪:1, 2, 3, 4 inch 永磁体:NdFeB --固定磁体:薄膜均匀性<±3.0 % --移动磁体:薄膜均匀性<±1.5 % 阴极:OFHC Copper 矩形溅射枪 --宽:1,5 to 4 inch (to 10 inch for double erosion) --长度:5 to 25 inch (to 120 inch for large planar area deposition) --永磁体:NdFeB --阴极:OFHC Copper 电源 直流电源:1 to 20 kW 中频电源: 1 to 20 kW 射频电源:0.3 to 15 kW
2.薄膜沉积控制: IC-5 and PC Control --沉积参数控制 --石英晶体振荡传感器-Single, dual or six sensor 膜厚监控和沉积过程计算机控制?膜厚监控和沉积速率计算机控制 大面积沉积(如 ITO上沉积LCD) 可升级为在线磁控溅射系统 基底尺寸:20 up to 120 inch 质量流量和自动压力控制 --质量流量控制器:多种气体控制 Baratron真空规:用于等离子体处理 节流阀和控制器
3.真空室: 圆柱形腔体 --直径: φ300 ~ 2,000 (Substrate : 2 to 12 inch, 1 to 400 sheets) --高度: 500 mm 方形腔体 根据客户需求定制 带自动样品递送装置的Loadlock样品加载室