光学膜厚仪的使用及原理
2010-06-22 13:50
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资料摘要:
光学膜厚仪的使用及原理
光学薄膜测厚仪 (SpectraThick Series) 的核心技术介绍和原理说明
SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer,glass等substrates上形成的氧化膜,氮化膜,Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。
测量原理如下:在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光,这时光的一部分在膜的表面反射,另一部分透进薄膜,然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。
仪器的光源使用Tungsten Lamp,波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理,测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一,有image processs功能,是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm,远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到,使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。
K-MAC (株) SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板,铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率,玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻,接触角度 (Contact Angle) 等的功能。
产品说明
本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上,利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。
这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场,特别在半导体及有关Display工作中作为
In-Line monitoring 仪器使用。
产品特性
1) 因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。
2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量 3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 3“ )
8)Table Top型, 适用于大学,研究室等
相关资料
新加坡technospex产品Brochure.zip
西班牙AWSensors产品datasheet-catalogue.zip
西班牙AWSensors Application notes.zip