光学膜厚仪的使用及原理

光学膜厚仪的使用及原理 光学薄膜测厚仪 (SpectraThick Series) 的核心技术介绍和原理说明 SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。 测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。 仪器的光源使用Tungsten Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一，有image processs功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。 K-MAC (株) SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 等的功能。 产品说明 本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上，利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。 这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场，特别在半导体及有关Display工作中作为 In-Line monitoring 仪器使用。 产品特性 1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。 2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。 3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。 4) 可测量 3层以内的多层膜。 5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。 6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。 7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 3“ ) 8)Table Top型, 适用于大学,研究室等