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微纳立方
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核心参数
产地类别: 进口
特点: · 易于安装 · 基于视窗结构的软件,很容易操作 · 先进的光学设计,以确保能发挥出最佳的系统性能 · 能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角度 · 高功率的DUV-VIS光源,能够应用在很宽的波段内 · 基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测量 · 最多可测量12层薄膜的厚度及折射率 · 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数 · 系统配备大量的光学常数数据及数据库 · 对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析; · 三种不同水平的用户控制模式:专家模式、系统服务模式及初级用户模式 · 灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试 · 健全的一键按钮(Turn-key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方案 · 用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测量 · 系统有着全自动的计算功能及初始化功能 · 无需外部的光学器件,系统从样品测量信号中,直接就可以对样品进行精确的校准 · 可精密的调节高度及倾斜度 · 能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片 · 各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需求 · 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。系统配置: · 型号:SE200AA-M300 · 探测器:阵列探测器 · 光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源 · 指示角度变化:可编程设定,自动可调 · 平台:ρ-θ配置的自动成像 · 软件:TFProbe 3.2版本的软件 · 计算机:Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器 · 电源:110–240V AC/50-60Hz,6A · 保修:一年的整机及零备件保修规格: · 波长范围:250nm到1000 nm · 波长分辨率: 1nm · 光斑尺寸:1mm至5mm可变 · 入射角范围:10到90度 · 入射角变化分辨率:0.01度 · 样品尺寸:最大直径为300mm · 基板尺寸:最多可至20毫米厚 · 测量厚度范围*:0nm〜10μm · 测量时间:约1秒/位置点 · 精确度*:优于0.25% · 重复性误差*:小于1 Ǻ选项: · 用于反射的光度测量或透射测量 · 用于测量小区域的微小光斑 · X-Y成像平台(X-Y模式,取代ρ-θ模式) · 加热/致冷平台 · 样品垂直安装角度计 · 波长可扩展到远DUV或IR范围 · 扫描单色仪的配置 · 联合MSP的数字成像功能,可用于对样品的图像进行测量应用: · 半导体制造(PR,Oxide, Nitride..) · 液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..) · 医学,生物薄膜及材料领域等 · 油墨,矿物学,颜料,调色剂等 · 医药,中间设备 · 光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... .. · 半导体化合物 · 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜 · 非晶体,纳米材料和结晶硅 · 应用于太阳能电池项目上应用实例: 请与我们联系以获得详尽的应用实例......
详情关注:北京燕京电子有限公司
企业名称
微纳立方科技(北京)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105031497843
成立日期
2021-07-19
注册资本
500
经营范围
技术咨询、技术转让、技术推广、技术服务、技术开发;软件开发;计算机系统服务;数据处理;基础软件服务;应用软件服务(不含医用软件);技术进出口、代理进出口、货物进出口;维修计算机;租赁计算机;销售电子产品、仪器仪表、计算机、软件及辅助设备。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
公司地址
朝阳区酒仙桥东路9号A2-西七层
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公司名称: 微纳立方科技(北京)有限公司
公司地址: 朝阳区酒仙桥东路9号A2-西七层 联系人: 彭工 邮编: 100015 联系电话: 400-860-5168转0745
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