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Veeco公司5月成功举办两场光学干涉技术研讨会
2008年5月20号及23号，Veeco公司在北京、上海两地成功地举办了两场光学干涉表征技术研讨会。来着Veeco美国的技术科学家韩森博士及全球产品顾问Wanye Mozer先生全程参加了此次活动。他们针对：MEMS、精密机械加工、汽车、摩擦学、数据存储、半导体等领域做了详细的报告。在北京的研讨会上，我们还安排了NT9100仪器的展示及现场测试活动。
在整场活动中，客户直观地了解到了光学干涉技术及光学轮廓仪在他们领域中的应用，得到他们的赞许。
Veeco公司会持续地开展此类技术研讨会活动，感兴趣的客户请关注我们的网站。
北京研讨会现场
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