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PECVD
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美国NANOMASTER公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）等。可选用射频（RF）、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。
产品型号：
NPE-3000 桌面型PECVD系统
NPE-4000 立式型PECVD系统
技术参数：
详述说明：
1) 平板尺寸：8”
2) 源直径：5”或8”
3) 气体输入管数量：4（两个反应气，一个载气，一个排空管）
4) 源距平板的距离：2”或者可调
5) 真空：低于E-7Torr，200L/sec涡轮分子泵及3.5cfm机械泵组合
6) 最大平板温度：800℃
7) 射频电源供应：600W，13.5MHz
8) 射频偏压：300W，13.5MHz
主要特点：
可以提供 NRP-4000 反应离子刻蚀（RIE）和PECVD双系统。
详细信息请联系我们
企业名称
仕嘉科技（北京）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110108000485984
成立日期
1999-07-08
注册资本
200
经营范围
批发科学仪器及配件耗材(涉及配额许可证管理、专项规定管理的商品按照国家有关规定办理);科学仪器的技术咨询;安装维修;技术支持;售后服务;科学仪器的研发。(该企业2007年7日11日前为内资企业,于2007年7月11日变更为外商投资企业;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。)
仕嘉科技(北京)有限公司
公司地址
北京市海淀区知春路甲48号盈都大厦3-1-9B
客服电话
公司名称： 仕嘉科技(北京)有限公司
公司地址： 北京市海淀区知春路甲48号盈都大厦3-1-9B 联系人： 李小姐 邮编： 100098
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