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美国NANOMASTER公司提供高性能反应离子刻蚀系统，能够满足多种金属和非金属刻蚀的需要。该系统可以选用RF、空阴极等离子体、感应耦合等离子体（ICP）和微波等离子体源来满足不同材料刻蚀的需要。
技术参数：
控制： PC控制（Lab View）
腔： 13寸铝质
基座托： 13℃水冷 -120℃低温制冷
气体供应：喷头，MFC，SS管路 气体环
等离子源：RF平板，P-100空阴极，感应耦合等离子源（ICP)
直流偏压：-500V自偏压、-1000V偏压
基本真空 E-6Torr－E-7Torr
工艺压力 0.02-8Torr、0.001Torr以上
射频电源 600W,1000W，2000W选项
真空泵 200L/sec耐腐蚀涡轮泵、500L/sec耐腐蚀涡轮泵
电源 110/220V 三相电，40/20A
主要特点：
NRE-3000 桌面式反应离子刻蚀系统
NRE-4000 立式反应离子刻蚀系统
NRP-4000 反应离子刻蚀（RIE）和PECVD双系统
NDR-4000 深反应离子刻蚀系统
详细信息请联系我们
企业名称
仕嘉科技（北京）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110108000485984
成立日期
1999-07-08
注册资本
200
经营范围
批发科学仪器及配件耗材(涉及配额许可证管理、专项规定管理的商品按照国家有关规定办理);科学仪器的技术咨询;安装维修;技术支持;售后服务;科学仪器的研发。(该企业2007年7日11日前为内资企业,于2007年7月11日变更为外商投资企业;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。)
仕嘉科技(北京)有限公司
公司地址
北京市海淀区知春路甲48号盈都大厦3-1-9B
客服电话
公司名称： 仕嘉科技(北京)有限公司
公司地址： 北京市海淀区知春路甲48号盈都大厦3-1-9B 联系人： 李小姐 邮编： 100098
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