原子层沉积系统

LabNano^TM 系列是专门为科学研究与工业开发领域的用户而设计的灵活精巧、高度集成的原子层沉积系统。完全符合CE标准。它的操作界面直观简单，初学者容易熟练掌握，配备多种材料的标准沉积工艺配方，使用及维护成本低。
高度集成和灵活性: 该系列适用于固态、液态、气态前驱体源。提供2路到6路前驱体源管路供用户选择。兼容臭氧发生器、气氛手套箱、大尺寸多片样品沉积附件等多种选配件。
精确控制与多种沉积模式: 用户可通过设定循环次数和时间来实现原子级尺度厚度可控的薄膜沉积。包括三种沉积模式：连续模式^TM （Flow ^TM ）、停流模式^TM （StopFlow ^TM ）、压力调谐模式^TM （PreTune ^TM）。可实现高速沉积、对微孔内壁、超高宽深比结构等复杂异型3D结构的沉积。消除CVD效应和前驱体反流对沉积过程的影响。实现在材料物质改性等领域的重要应用。
多种标准沉积工艺配方: 我们为客户提供多种材料的标准沉积工艺配方 ，包括在不同条件、不同沉积速率下的工艺配方以满足用户的需求。

完美的易操作性: 操作界面直观简单, 操作者很容易熟练掌握。所有参数（前驱体源温度、管路温度、腔体温度、载气流量，脉冲时间等）均在计算机操作界面中设定修改，整个沉积过程及状态参数均实时显示。所有薄膜沉积模式及工艺配方均可以实现自动存储调用。包含多重安全保护机制，如过压保护及出现异常自动关闭ALD阀门防止前驱体泄漏等。

稳定可靠与低使用维护成本: DualO^TM氮气保护的双O-Ring高温密封系统，有效隔绝其他气体渗漏。最紧凑的全部加热的管路设计和大面积小体积的腔体结构，结合特殊的尾气处理装置，把前驱体源的浪费减少到最低，既有效地节约了前驱体的使用量，同时又避免了在管路中的残留反应和对真空泵的污染所造成的损失。
基本技术参数
基片尺寸：4 -12 英寸可选
样品高度：6 mm  可选配更高样品选件
基片温度：RT-400℃，控制精度±1℃，可选配更高温度选件
前驱体输运系统：标准2路前驱体管路，可以选配到6路以上
载气系统：N2或者Ar
可选件： 手套箱，大尺寸/多片样品夹具，颗粒包裹夹具，臭氧发生器，原位监测系统，尾气处理系统，客户定制反应腔等
沉积均匀性：Al2O3  均匀性 <+/&minus;1%
电源： 50-60Hz, 220V /15A交流电源
机柜： 标准金属机柜，易拆卸柜板，可调节支脚
仪器尺寸：1100 X 600 X 1200 mm
LabNano PE ^TM 系列是专门为科学研究与工业开发领域的用户而开发的具有等离子体增强; 离子束辅助沉积功能的原子层沉积系统。相关附件可容易互换，配备多种材料的标准沉积工艺配方，使用及维护成本低。
基本技术参数
基片尺寸：4 -8 英寸可选
基片温度：RT-600℃，控制精度&plusmn;1℃，可选配更高温度选件
前驱体输运系统：标准3路前驱体管路，可以选配到6路以上

等离子体气源：标准3路，可以选配到6路以上

等离子体源：ICP remote plasma  300W, 更大功率可选

基片输运系统：手动, 手动/自动Load lock可选
可选件： 手套箱，臭氧发生器，原位监测系统，尾气处理系统，离子束辅助沉积附件
沉积均匀性：Al2O3  均匀性 <+/&minus;1.5%
FabNano^TM  系列是专门为工业小型化量产用户而设计的工业极原子层沉积系统。采用了独特的前驱体输运系统，可以完美实现薄膜厚度与薄膜厚度均匀性的精确控制。配备多种材料的标准沉积工艺配方，满足工业应用的标准, 使用及维护成本低。
主要特点：
精确的过程控制
便捷的操作界面
完善的沉积工艺
快速的温度恢复时间
高批量的生产模式
多重安全机制,易操作
超低的运营维护成本
基本技术参数:
基片尺寸：4 -12 英寸可选, 其他尺寸基片可选
基片温度：RT-300℃，控制精度&plusmn;1℃
前驱体输运系统：标准2路前驱体管路，可以选配到多路

基片输运系统：手动, 手动/自动Load lock可选
沉积模式： 高速沉积模式
沉积速率 ： 单循环时间：<30s (25片)   单循环时间：<40s （52片）
沉积均匀性：Al2O3  均匀性 <+/&minus;2%

处理能力：52片- 4 英寸

可按用户要求定制
MassNano^TM  系列是专门为工业化生产而设计的工业极全自动原子层沉积系统。采用了独特的前驱体输运系统，可以完美地实现薄膜厚度与薄膜厚度均匀性的精确控制。配备多种材料的标准沉积工艺配方，满足工业应用的标准, 使用及维护成本低。
主要特点：
精确的过程控制
便捷的操作界面
完善的沉积工艺
快速的温度恢复时间
高批量的生产模式
多重安全机制,易操作
全自动在线系统
低的运营维护成本
我们可针对不同用户的需求提供:
单腔或多腔系统, 基片尺寸：4 -12 英寸, 1m x1.2m 或其他大尺寸基片
基片输运系统：自动Load lock 或机械手
单腔或多腔 Roll to Roll  系统, 适用于大尺寸柔性基材连续沉积

可按用户要求定制

英作纳米科技(北京)有限公司专门从事原子层沉积技术的研发与设备的制造。是中国大陆最早自主研发生产原子层沉积设备的高新技术企业。公司产品涵盖研究级、批量生产级、工业级等多种类型不同规格的原子层沉积设备, 拥有独立的知识产权与多项专利技术。目前已经与国内外的多家高校、科研院所、和企业建立了深入的合作关系。
公司同时提供与原子层沉积技术相关的技术咨询、技术培训、技术开发、大批量镀膜代工等服务。欢迎垂询。