2023年5 月 26 日,莱伯泰科受电子化工新材料产业联盟的邀请,出席江苏常州“2023•光刻胶及聚酰亚胺先进技术和产业应用研讨会”,大会上莱伯泰科带来半导体领域解决方案,并与行业内各位专家进行热切讨论。
会议图片
光刻是半导体制造微图形工艺的核心,光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%。目前国内光刻胶产业仍处于发展起步阶段,高端半导体光刻胶市场仍被日本和美国公司垄断,国产替代率较低。2021年5月20日,莱伯泰科重磅发布LabMS 3000电感耦合等离子体质谱仪,强势进军半导体行业。2023年3月10日,莱伯泰科隆重推出针对于半导体行业研发生产的LabMS 5000 ICP-MS/MS电感耦合等离子体质谱,致力于为半导体行业用户提供更加精准、高效的解决方案。
电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000 ICP-MS
LabMS 5000 电感耦合等离子体串联质谱仪(ICP-MS/MS)
莱伯泰科作为主要国产仪器厂商之一,在分析仪器领域已深耕20年,始终坚守在推动我国科学仪器发展的前线。近些年莱伯泰科在质谱创新之路的进展加速着国产替代的进程,以实际行动助力我国半导体产业健康稳步发展,实现高水平科技自立自强。
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