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莱伯泰科:膜去溶-ICP—MS测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质分析方法研究
摘要:研究了不经基体分离,膜去溶一ICP MS法直接测定高纯CeO2中14种痕量稀土杂质的分析方法,讨论了ce基体产生的多原子离子对被测元素的质谱干扰,并且对影响多原子离子产率的因素进行了分析,同时建立了Pr,Gd,rrb和Yb数学校正方程。通过使用膜去溶雾化器和优化ICP.MS参数,消除了Cel ,CeO2 和CeO2H 产生的质谱干扰,将CeO/Ce产率降为0.008% ,同时结合数学校正方程彻底消除了CeO ,CeOH 和CeOH2 的质谱干扰。Pr,Gd,,rb和Yb的方法测定下限分别为0.08,0.1,0.15和0.008 g·g~ ,l4种稀土杂质方法测定下限和为0.75 g·g一。99.999%高纯CeO2实际样品测定加标回收率为96% ~103% ,RSD为1.2% ~4.3% 。 关键词:高纯CeO ;膜去溶;数学校正;ICP.MS;多原子离子干扰;稀土
钢铁/金属
2017/09/06
莱伯泰科:离子色谱-膜去溶-ICP—MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质
摘要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HN03洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,c0,Ni,cu,zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90% 一107%之间,检出限在0.0ol~0.5 gg/g之间。 关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱
钢铁/金属
2017/09/06
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