颗粒计数加上业界标准的TOC分析技术为电子制造业的去离子水设施监测和清洗过程提供一体化方案
产品介绍
超纯水(UPW)设施以及水清洗系统的颗粒监视和控制, 对越来越多类型的制造工业愈来愈重要. 例如,诸如平板显示器(FPD)和硬盘驱动器(HDD)部件的精密制造技术的改进要求能测出过程液体中小到0.1μm的污染物颗粒。
Anatel的Ultrapure-100提供去离子水应用中0.1μm颗粒监测的完全集成化的方案. 无论您的要求是查找故障, 监测, 或者是检核水清洗系统, 或者仅是在您工厂的UPW厂的重要场所进行监测, 您会发现Ultrapure-100是您在线过程分析的一个有效且能承担的补充仪器。
Ultrapure-100将所有的坚固的光-机械装置, 计数和通信电子线路以及独特的流量控制系统都结合在一台仪器里并达到无可相比的性能. 在高液压的应用, 诸如去离子水设施监测, 总的系统流速会超过1.0升/分钟. 这样就要求非常快的清洗和恢复时间以及优良的流量调节, 甚至是在动态的检测入口压力下也如此。
Ultrapure-100是一套完整的系统, 非常容易安装并与您现有的设施监测系统(FMS)或楼宇管理系统(BMS)结合起来.另外, Ultrapure-100能作为一台单独的仪器使用并能与许多软件包兼容。
Ultrapure-100配套提供易于使用的基于Windows®的组态工具, 使安装和系统集成快速和方便. 诸如数据通道数量, 采样周期, 和4-20mA模拟输出设置能根据特别要求快速组态. 实时系统诊断保证日期完整性不会有问题. 标定完全可追溯到NIST标准。
颗粒计数通常和总有机碳(TOC)测量互补, Anatel是半导体和平板显示器工业中TOC监测的行业标准. Anatel的TOC分析系统是由一系列模块化组件组成,能按需组合用于任何水系统. 现在, 有了颗粒计数后, Anatel的仪器测量更进一步, 能保证增加您的高纯水传送系统的效率和产量。
主要性能
0.1和0.2μm标准颗粒尺寸
可在0.1至5.0μm范围内定制
4-20mA模拟输出
高流速-清洗时间非常快
一体化方案, 维护量小
优秀的流量调节-“设置完了就可不管了”
激光源诊断
可提供颗粒计数软件
性能指标
粒径通道(μm)0.1, 0.2
系统流速>1 升/分钟
样品流速100 毫升/分钟 (样品入口压力调整到30至100 psi)
光源激光二极管
样品入口压力不超过100 psig (690 kPa)
不低于 7.0 psig
温度工作 7至40℃
样品 7至40℃
物理指标
电源90-260 VAC, 50/60 Hz
功耗不大于80VA (100V 时0.8A)
I/O接口模拟 光电隔离4-20mA 输出,(标准2通道, 可选4通道)
RS-232
设置时用的串行口
电气I/O连接在仪器的底部, 带有保
显示2通道或4通道的颗粒计数数据(用户可选)
指示灯电源, 激光情况, 泄漏状况
液体连接SS 1/4" Swagelok (样品入口和出口)
外置流量计
外壳涂漆铝壳
尺寸305mm 长 x 203mm 宽 x 190.5 mm 深(12" x 8" x 7.5")
相对湿度不超过90%, 不凝露
包含附件
包括电源装置, 软件设置应用程序, 1/4"尼龙样品和排放管
电源线, 操作员手册
可选可选墙壁安装支架, 数据趋势软件
(请致电您的销售代表以获得更多信息)
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