纳米激光直写光刻系统

激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料（光刻胶）实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。

产品特点：

•      ● 我们的系统利用激光与材料的非线性相互作用，成功突破了光学衍射极限的限制，实现了纳米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直径可达50nm。

•      ● 我们的系统针对的不仅仅是光刻胶，我们可接受多受体材料：通过高精度的功率调制，可兼容包括金属薄膜、无机相变材料、光刻胶等多种受体材料。

•      ● 可靠易用性：拥有强大的软件功能，支持标量刻写、矢量刻写等多种刻写模式，供用户根据不同的刻写场景而选择。还支持样品刻写后的在线分析，使用户一站式完成设计、刻写、分析等步骤，大大提高了工作效率。

LDW-P系列

•      激光波长：405 nm

•      特征尺寸：100 nm

•      激光功率：120mW 至300 mW（可选）

•      刻写范围：100μm×100μm 至 1500μm×1500 μm（可选）

•      产品描述：LDW-P系列是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统，根据压电平台的移动范围，分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型号，具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征，能广泛适用于各种微纳结构及器件制造、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求，提供定制设计和制造。

LDW-L系列

•      激光波长：405 nm

•      特征尺寸：100 nm

•      激光功率：120mW 至300 mW（可选）

•      刻写范围：50mm×50mm 至 100mm×100 mm（可选）

•      产品描述：LDW-L系列是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期。

结果示例：