离子束光刻系统 ionLiNE

Raith的ionLINE (TM)系统是将聚焦离子束和光刻系统完美结合的纳米加工系统。

它结合了不同的聚焦离子束技术，稳定性高，全自动控制，分辨率高，重复性高。

ionLINE 有着Raith研发的NanoFIB-TWO纳米加工离子枪，以及从Raith电子束曝光机系统里移植过来经过时间考验的激光干涉工作台和专业的曝光软件。

离子束曝光系统用很多方法手段，以不同的工艺步骤完善了纳米加工工艺：离子束曝光系统不再局限于基于光刻胶的曝光，更多地使用直接的图型化技术，如Milling、刻蚀或沉积，以及直接掩模包括硬掩模，注入或功能化。

ionLiNE真正的离子束光刻机

• 高精密和稳定的100mm激光干涉工作台，非破坏性的导航和大面积图型化

• 专利技术的NanoFIB-TWO离子枪，分辨率高，束斑非常有特点（束拖尾很小），精确的束偏转

• 久经考验的曝光控制软件，可精确控制离子束

ionLiNE发展高效的工艺

• 用直接研磨或样品功能化来减少纳米加工工艺的步骤

• 快速工艺开发，用实时工艺监测和三维载片台在线检查和优化工艺

• 可实现有挑战性的材料和先进的原型设计的工艺

• 高稳定性使真正器件的全自动批量加工工艺成为可能

适用各类技术改成——灵活的技术手段

• FLEXposure图型化模式：提供了非常适宜的离子束技术和图型化策略

• 专业的设计和剂量控制支持二维薄层图型化或三维纳米加工
  

• 无需光刻胶直接图型化的能力可适用于三维/不平整样片或悬浮样片上的各种应用需求

ionLiNE除了可配备标准部件，如进料室、光学探测器、实时工艺监测和三维载片台外，还可增加额外的功能：

• 五通道或单通道气体注入系统，适用材料种类多，可实现定位沉积和气体辅助刻蚀

• 笛卡尔纳米操纵，可用于机械操纵，电学探针或信号测量

• 自动高度传感器，可实现大面积聚焦控制

• 固定束移动工作台FBMS和调制束移动工作台MBMS曝光模式，无拼接误差地处理长路径图形和周期性图型。