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1. 产品概述
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。
2. 设备特点
磁阻式随机存取存储器（MRAM）；
介电薄膜；
III-V族光电子材料刻蚀；
自旋电子学；
金属电极和轨道；
超导体；
激光端面镀膜；
高反射（HR）膜；
防反射（AR）膜；
环形激光陀螺反射镜；
X射线光学系统；
红外（IR）传感器；
II-VI族材料；
通信滤波器。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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