LAS2000系列 气体分析仪
LAS2000系列 气体分析仪

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鉴知技术

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LAS2000

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中国大陆

  • 白金
  • 第7年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数
 产品简介


鉴知®LAS2000系列气体分析仪可实时、连续、快速监测HF、HCl、CO、CO2、CH4、O2等气体的含量。

锂离子电池行业中, LAS2000可对六氟磷酸锂合成过程中HF、HCl气体进行实时检测。

电子特气行业,LAS2000可对三氟化硼、四氟化锗等电子气体中杂质HF、HCl、CO、CO2、CH4、SO2等气体进行检测。


可检测气体


HFHCLCOCO2CH4O2
检测限*(ppm)0.020.050.10.20.1100
测量范围**0~20ppm0~10ppm0~100ppm0~100ppm0~1%0~100%

H2SH2OSO2NONH3
检测限*(ppm)30.111
0.15

测量范围**0~500ppm0~50%0~300ppm0~50ppm0~15ppm

*检测限为1m光程25℃、0.1MPa下对应检测下限

** 测量范围可定制


应用方式

image.png

HF实时浓度采集

image.png



 技术特点

• 实时:响应时间≤1s

• 原位:常压的样品可原位在线检测

• 耐腐蚀:尤其适合含有HF的气体体系

• 互联:及时将结果反馈给中控系统

• 抗干扰:单线吸收光谱,避免其他背景气体的干扰

• 自修正:温压自动补偿修正


 产品参数

压力范围

大气压±5 kPa(高压气体可通过减压处理检测)

温度范围

≤800 ℃

线性误差

±1.0% F.S.

重复性

±1.0% F.S.

模拟信号输入

4-20 mA,温度压力补偿修正

模拟信号输出

4-20 mA

数字信号输出

RS485

开关量输出

继电器输出,气体浓度报警,系统故障报警

尺寸

1500 mm × 600 mm × 1500 mm

重量

230 kg

气路接口

标准6 mm卡套接头,其他尺寸可转接




 应用领域


相关方案

  • 年来国家鼓励国内半导体产业创新发展,打破国外垄断,实现技术自主,出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗(GeF4)作为一种锗的氟化物,在半导体行业中用于掺杂和离子注入,结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶,其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中,需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体,使其残留量值低于企业标准中的限量值(35ppm)。为了监测此工艺过程的效果,需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。

    半导体 2023-03-21

  • 年来国家鼓励国内半导体产业创新发展,打破国外垄断,实现技术自主,出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗(GeF4)作为一种锗的氟化物,在半导体行业中用于掺杂和离子注入,结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶,其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中,需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体,使其残留量值低于企业标准中的限量值(35ppm)。为了监测此工艺过程的效果,需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。

    半导体 2023-03-21

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 提供至少一次售后培训

免费仪器保养: 具体见合同

保内维修承诺: 具体见合同

报修承诺: 48小时内响应

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