工业痕量气体分析仪

关键特性

• 拥有 HF、HCI 和 NH₃ 中的单一气体或多气体配置

• 还能报告准确和精确的 H₂O 测量结果

• 标配 0 - 5 V 及模拟 4 - 20 mA 输出，可选 Modbus

TCP

• 优化的数据处理，使得能以最优的性能测量亚 ppb

级浓度

• 主密码保护可确保分析仪和数据安全

• 定制的标定和性能认证文件包

• 通过触摸屏进行气体浓度和分析仪状态的数字化显示 • 优化的零气性能，确保可靠地确认过程事件

概述 

LGR-ICOS™工业用痕量气体分析仪能以最高的灵敏度、 准确度、精度和响应速度，满足客户最苛刻的要求：

• 对半导体晶圆厂的工艺流程和为了人身健康与安全而

进行气载分子污染物（AMC）监测

• 前开式晶圆传送盒（FOUP）和气相沉积室监测

简介

LGR-ICOS AMC 监测分析仪能以极高的精度和灵敏度， 对环境空气或惰性工业气流中的氟化氢、氯化氢、氨和 水蒸气进行高度灵敏地测量。该系列分析仪适用于进行 半导体应用中的气载污染物监测、FOUP 监测和各种惰 性气体背景下的测量，能以最佳的整体性能报告宽浓度 范围内的测量结果。

该 LGR-ICOS 痕量气体分析仪采用我们已获专利的离 轴 ICOS 技术，也是第四代光腔增强吸收技术。该离轴 ICOS 技术相比传统的光腔衰荡光谱（CRDS）技术具 有许多优势，包括性能更加稳健和可靠，测量时间更短，

光腔和镜片可现场维修等。

所有 ABB 仪器都配有内部计算机（Linux OS），能将 每次分析的结果和被测气体的完整光谱都保存到内部硬 盘上以实现长期无人值守的运行。数据可以通过模拟、 数字（RS232）和 Modbus 输出连续地导出。而且， 仪器可以通过互联网进行远程控制。通过远程访问，用 户可在无需到达现场的情况下，控制仪器，获取数据， 以及诊断故障。

这些 LGR-ICOS 分析仪操作简单，启动迅速（只需几 分钟），无需现场标定，且预防维护需求极少。和所有 ABB 分析仪一样，LGR-ICOS 工业痕量气体分析仪由我 们专业的服务和技术支持人员来支持。

项目（气体） H2O NH3 HCI HF H2O