低温恒温水浴槽CYDC-8006温度-80~100

THE PRODUCT DESCRIPIOM  ?∣产品说明：

川一仪器DC系列低温恒温槽是自带制冷和加热的高精度恒温源， 可在机内水槽进行恒温实验，或通过软管与其他设备相连，作为恒温源配套使用。泛用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门，高等院校，企业质检及生产部门，为用户工作时提供一个热冷受控，温度均匀恒定的场源，对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试，也可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源或冷源。

THE MAIN CHARACTERISTICS  ?∣主要特征：

●低温恒温槽采用全封闭进口压缩机制冷，制冷系统具有过热、过电流多重保护装置

●具有内外循环作用，循环泵可以把槽内被恒温液体外引,建立第二恒温场

●采用进口全自动PID温度设定程序及进口温度传感器，控温精度高。温度数字显示。

●大屏幕液晶中英文对照显示，数据清晰，外形美观，个性化界面让工业控制不再单调。

●低温恒温槽机身外壳采用镜面防老化静电喷漆技术，内胆、台面均为不锈钢，清洁卫生，美观耐腐蚀。

●槽内冷液可外引,冷却机外实验容器,也可在槽内直接进行低温、恒温实验。

TECHNICAL PAPAMETERS  ?∣技术参数：

●以下为低温恒温槽可选配功能
1.可选配通讯接口与PC机同步操作。
2.可选配内置1~30段的程序进行温度控制，自动程序控温，实时显示设定温度及时间程序 运行状态
3.可选配外接温度传感器功能，实现内外温度设定，可监测和控制外循环时外部装置体系的温度。
4.可选配重新布局槽体内置的冷却盘管，对反应槽的放热反应进行控制。
5.可选配设计安装磁力搅拌功能，无需外接立式搅拌机，操作简单方便，可以实现全封闭恒温下的搅拌反应。
6.脚轮可以根据客户要求加装，拆卸方便

低温恒温槽为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围 的温度精确控制，应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测 量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。

    低温恒温槽精密恒温控制系统，整个量程范围的温度精确可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷关键配件也采用全进口配件；制冷系统具备高压保 护器，确保制冷系统安全。低温恒温槽装置采用全封闭磁力泵循环搅拌，温场均匀，绝无泄漏，传感器开路、短路保护、双重温度保护等功能，确保仪器安全运行。
    低温恒温槽可在机内水槽进行恒温实验，或通过软管与其他设备相连，作为恒温源配套使用，为用户工作时提供一个热冷受控，温度均匀恒定的场源，对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试，可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源。低温恒温槽装置内置新一代温度控制程序，确保设备运行稳定，全封闭压缩机组制冷，制冷系统具有过热、过电流多重保护装置。
    低温恒温槽可以把槽内被恒温液体外引，建立第二恒温场，槽内冷液可外引，冷却机外实验容器，也可在槽内直接进行低温、恒温实验，采用模拟数字PID自动控制系统，温度数字显示，内胆、台面均为全不锈钢，清洁卫生，美观耐腐蚀。低温恒温槽装置为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。