减薄角度： –90° 至 90° (角度与不同样品台有关)
离子能量： 0.8 kev 至 10 kev (0.1keV每步)
看了离子减薄仪的用户又看了
使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备高水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
高效并节约成本
● TEM，SEM和LM应用功能集于一体
● SEM样品制备可达25mm样品直径
● TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率
● 局域网功能方便远程操控
安全
离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果
保持样品原生态
LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨
操作简便
● 内置应用参数库
● 帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 现场培训
免费仪器保养: 6月1次
保内维修承诺: 免费上门维修
报修承诺: 72小时内到达现场并开始维修
徕卡离子减薄仪EM RES102的工作原理介绍
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