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简介:一、真空镀膜常见不良分析: 膜强度是镜片镀膜的一项重要指标,也是镀膜公祖最常见的不良项。 基片与膜层的结合是首要考虑的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。 二、膜强度不良的产生原因及对策: 基片与膜层的结合: 一般清洗在减反膜中,
简介:一、真空镀膜常见不良分析: 膜强度是镜片镀膜的一项重要指标,也是镀膜公祖最常见的不良项。 基片与膜层的结合是首要考虑的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。 二、膜强度不良的产生原因及对策: 基片与膜层的结合: 一般清洗在减反膜中,这是膜弱的主要原因。由于基片面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上,而基片的表面由于光学冷加工的作用,总有一些杂质深入破坏层(如水汽、油汽、清洗液、擦洗液、抛光粉等,其中水汽为主要),很难用一般的方法去除干净,特别对于亲水性好、吸附力强的基片尤其如此。当膜料分子堆积在这些杂质上时,就影响了膜层的附着,也就是影响了膜的强度。
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