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小型磁控溅射仪/离子溅射仪简介

简介：目前市面上主流喷金仪产品，采用高电压二极直流溅射方式沉积薄膜，这种设计优点是结构简单，但是缺点是容易造成能量集中，对于样品有明显的温升效应的。 我司ISC150喷金仪采用磁控溅射手段，通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理，有较低的离子轰击损伤和温升效应；另外，我们的特点还有操作简单，触控面板界面，一键式操作。
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