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天津兰力科:阴极溶出伏安法测定痕量硒( Ⅳ)

简介:采用银基汞膜电极为工作电极,研究了硒( Ⅳ)在0. 10 mol/L HClO4 与1 mg/L Cu ( Ⅱ)离子的电解液中,以硫氰酸根离子为增敏剂的阴极溶出行为,硒浓度在5~30μg/L范围内与其峰电流呈良好的线性关系,并研究了铁( Ⅲ) 、铅( Ⅱ) 、锌( Ⅱ) 、镉( Ⅱ) 、硫( Ⅱ)碲( Ⅳ)等离子对测定硒的干扰问题.
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  • 上传日期:2017-11-07
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