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CVD法制备石墨烯的工艺流程详解

简介:将一种含碳的气态物质在高温和高真空的环境下,用氢气作为还原性气体,通入到炉内,生成石墨烯全部都是沉积的衬底表面。石墨烯用化学气相沉积法制备的设备管式炉,微波等离子CVD设备、射频化学气相沉积法等
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  • 上传日期:2016-08-10
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