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非平衡磁控溅射技术在薄膜制备中的应用研究

简介：为探索非平衡磁控溅射技术在薄膜制备中的应用，制备了厚度为 4μm 的铝薄膜，研究了非平衡磁控溅射系统功率对薄膜沉积速率和薄膜致密性的影响。采用台阶仪和扫描电子显微镜对薄膜进行了表征。结果表明，非平衡磁控溅射系统功率对薄膜沉积速率及薄膜致密性有较大影响。增大功率有利于获得更加致密的薄膜。
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