ICP-MS讲座：21. ICP-MS的多原子离子干扰_免费下载__资料中心

简介：对11mg/mL级的样品溶液，等离子体中等离子体气和基体核素的中性粒子和离子的数量可大出痕量分析物的数量的10⁸倍。这就不可避免地使大量粒子之间产生反应，即使反应速率很低，产生的离子也将造成干扰。这种反应主要发生在数量最多的Ar、O和H之间，以所有同位素相组合，产生OH₃、ＡrO和ArH等离子。相似地，用于稳定溶液或消解过程后留下来的百分之几V/V的酸在等离子体中也将产生高浓度产物，参与相似的反应。这些反应的产物可能是两个或三个原子的离子，可能和某待测痕量离子以同样的标称质量出现在谱图中，因而造成严重的干扰。过高的分析物基体浓度也可能造成相似的干扰。因为等离子体中最大量的原子是Ar，H和O次之，尽管最常见的多原子离子是两个原子的，其中通常至少包括Ar，H，O中的一个。酸元素干扰按严重性增加依次为N、Cl、P和S，若按电离能则次序正相反。因而对酸的选择也应作相应考虑。因为等离子体中原子数量最多的通常是质量低于40u的轻元素，在双氩峰80u以上没有显著的多原子种类，这就是80u以下检出限较差的一个主要原因。

ICP-MS讲座：21. ICP-MS的多原子离子干扰

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