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纳米孔氮化镓材料的制备和研究
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简介:介绍了一种在氮化镓外延片表面制备得到孔径为纳米量级 的多孔结构 的工艺.用 电化学方 法制备 出孔径为纳米量级的多孔 阳极氧化铝模板作 为掩模,经过电感耦合等离子体 (ICP)刻蚀制 备得到纳米孔氮化镓材料.孔的大小和孔 间距可以通过
简介:介绍了一种在氮化镓外延片表面制备得到孔径为纳米量级 的多孔结构 的工艺.用 电化学方 法制备 出孔径为纳米量级的多孔 阳极氧化铝模板作 为掩模,经过电感耦合等离子体 (ICP)刻蚀制 备得到纳米孔氮化镓材料.孔的大小和孔 间距可以通过改变阳极氧化条件来控制,改变刻蚀时间 可以控制孔深.刻蚀所用气体为氯气和惰性气体的混合物.扫描电镜照片显示,掩模 图形能够很 好地 转移到 GaN材料上.刻蚀后的材料经光荧光谱(PL Spectra)谱和 Raman散射谱测试,显示 出 良好的光学特性 ,并在一定程度上释放 了应力.
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