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NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质

简介：通常情况下，蚀刻液由硫酸和过氧化氢配制而成。由于是与其他化学物质一起使用的，任何金属杂质的引入都将会对IC器件的可靠性产生不利影响，因此需要使用的硫酸具有高纯度和高质量。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力， 详细>
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