您现在的位置:首页 > 资料中心 > 课件讲义下载 > 超高真空(UHV)脉冲激光沉积(PLD)工作原理示意图 下载

超高真空(UHV)脉冲激光沉积(PLD)工作原理示意图

简介:超高真空(UHV)脉冲激光沉积(PLD)(Pulsed Laser Deposition)镀膜系统工作原理示意图 PLD藉由脉冲激光束聚焦在靶材的表面上。靶材表面吸收大量能量,导致靶材快速蒸发而产生等离子羽状物并达到镀膜效果。 铠柏科技致力于PLD的镀膜技术并且依据客户实验需求开发客制化的超高真空系统,一般工作压力小于10-9Oorr
  • 所需积分:0 分
  • 下载次数:22 次
  • 获取积分:页面上方
  • 资料大小: 72 KB
  • 上传人: 台灣鎧柏科技有限
  • 上传日期:2013-01-07
  • 资料微信群
  • 我的下载

相关评论

您的评论:推荐
还可以输入500
    上传资料
    一键询价
    仪器信息网资料中心栏目所发布的一切文档、图谱等资源仅限于学习和研究目的,版权归原属作者所有;不得将上述内容用于商业或者非法用途,否则,一切后果请用户自负。您必须在下载后的24个小时之内,从您的电脑中彻底删除上述内容。如果您喜欢该资源,请支持正版,以便得到更好的正版服务。如有侵犯到您的权益,请联系我们(download@instrument.com.cn)处理,感谢您的合作!

    安装App资料免费下

    资料微服务您的资料助手