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氦离子化色谱分析高纯四氟化碳杂质

简介:四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体之一,其组分及混合气体可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、 详细>
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