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Zeta电位法监控氮化硅表面二氧化硅氧化层的去除

简介：在空气中保存并且接触水溶液后，PH值滴定实验 测得氮化硅片的等电点（IEP）为PH4。与氧化硅 片相比，IEP移向了更高的PH值。然而，如果用 5%的HF酸处理几秒钟，IEP变为5.3，这说明HF 有效出去了氮化硅表面的自生氧化层。如果在HF 处理之前先用Piranha 溶液处理一下，氧化物层 将会被处理的更彻底。
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