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原子层沉积技术（ALD）

简介：原子层淀积ALD技术 原子层淀积(ALD)技术正逐渐成为了微电子器件制造领域的必须。ALD技术于1977年首次由Tuomo Suntola博士发明，他利用ZnC12和H2S来淀积应用于电致发光器件中的硫化锌薄膜。多年来，原子层淀积技术的应用范围涉及从液晶显示 详细>
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