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简介:该文系统的介绍了德国Allresist公司所研发出的各种常用光刻胶型号,包括紫外光刻胶、电子束光刻胶(抗蚀剂)、图形反转胶、耐刻蚀保护胶、全系曝光光刻胶、聚酰亚胺光刻胶等。 光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚
简介:该文系统的介绍了德国Allresist公司所研发出的各种常用光刻胶型号,包括紫外光刻胶、电子束光刻胶(抗蚀剂)、图形反转胶、耐刻蚀保护胶、全系曝光光刻胶、聚酰亚胺光刻胶等。 光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司,有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶,电子束光刻胶(抗蚀剂)以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商,为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。
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