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Neocera 脉冲激光沉积系统（激光分子束外延系统）中文样本

简介：脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗 粒。另外，PLD 是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（?/pulse）。
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