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中频磁控溅射沉积DLC_TiAlN复合薄膜的结构与性能研究

简介：采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V 及单晶硅基体上制备了梯 度过渡的DLC/ TiAlN 复合薄膜。利用扫描电镜(SEM) 、X射线光电子能谱仪(XPS) 、显微硬度计、摩擦磨损仪等分析检测仪器 对DLC/ TiAlN 复 详细>
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