简介:本实用新型涉及一种用于半导体加工设备的控压装置以及半导体加工设备,该控压装置包括永磁体挡板、通电线圈以及通气管道,半导体加工设备的腔室的底部开设有通孔,通气管道的第一端通过通孔与腔室的内部连通,永磁体挡板设置于腔室的内部,永磁体挡板位于通孔的正上方,永磁体挡板能够在通电线圈的作用下升高或降低,以增大或减小永磁体挡板与通孔之间的距离。本实用新型能够在避免机械颗粒产生的同时,实现对腔室内的压力快速且精确的调节。
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-27