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反应腔体及半导体加工设备.pdf

简介：本实用新型公开了一种反应腔体及半导体加工设备,该反应腔体包括：腔体本体、隔离盖板和密封装置；其中,腔体本体的顶部设置有开口结构,沿开口结构的周缘设置有基座,基座连接于腔体本体；密封装置设置于基座上,隔离盖板盖设于开口结构,密封装置 详细>
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