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简介:本实用新型涉及一种半导体加工设备,包括进气部、升降部以及腔体,进气部包括螺旋进气管,螺旋进气管设置在腔体的内部,升降部与进气部连接以控制螺旋进气管在腔体的内部升降,螺旋进气管的主体被构造成由多个弧形部形成的对称结构,多个弧形部
简介:本实用新型涉及一种半导体加工设备,包括进气部、升降部以及腔体,进气部包括螺旋进气管,螺旋进气管设置在腔体的内部,升降部与进气部连接以控制螺旋进气管在腔体的内部升降,螺旋进气管的主体被构造成由多个弧形部形成的对称结构,多个弧形部具有相同的圆心,多个弧形部中的每两个对称,对称的弧形部接触以形成多个匀气部,多个匀气部之间形成匀气区域,多个弧形部上均设置有进气孔,进气孔朝向多个弧形部的圆心。本实用新型能够提高半导体加工设备内硅晶圆周围的气体的均匀性分布并能够调整气体浓度。
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