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一种蒸镀坩埚及半导体设备.pdf

简介：本实用新型提出一种蒸镀坩埚及半导体设备,包括：坩埚本体,所述坩埚本体内包括多个定位槽；喷嘴,设置在所述坩埚本体上,所述喷嘴包括固定部和喷射部,所述喷射部连接所述固定部,所述固定部的侧壁包括多个定位销,所述定位销设置在所述定位槽内；垫环,设置在所述固定部的侧壁上,且位于所述定位销与所述喷射部之间。本实用新型提出的蒸镀坩埚及其应用的半导体设备可以减少坩埚本体内螺纹上的沉积物,便于后续维护。
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